立方SiC研磨液、抛光液
立方SiC研磨液、抛光液
纳米抛光液
产品特性：
纳米粒子的分散稳定性好，放置3个月无明显沉降，粒度几乎没有变化。
具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。
绿色环保、抛光散热快、稀释能力强、成本较低。
采用有机酸碱化合物进行PH调节，防止引入更多的金属离子。
适用范围：适用于各类金属、橡胶塑料、半导体硅片、光学玻璃等材质的抛光。
产品规格：80nm、100nm、120nm、200 nm、300nm、500nm。
可按照客户的具体要求定制粒度和浓度等配置。
橡胶塑料研磨液
产品特性：
采用立方碳化硅微粉为磨料，具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。
严格的粒度控制，粒度分布指标优于行业和国家标准。
ØPH值为中性，无腐蚀性，不会对人员操作造成伤害。
适用范围：适用于橡胶、塑料、聚合物基复合材料等材质的研磨抛光。
产品参数：
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粒度号 |
微米尺寸范围（µm） |
β-SiC微粉浓度 |
包装规格 |
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W0.03 |
0-0.03 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.04 |
0-0.04 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.05 |
0-0.05 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.07 |
0-0.07 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.1 |
0-0.1 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.2 |
0.05-0.2 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.3 |
0.07-0.3 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.4 |
0.08-0.4 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W0.5 |
0.1-0.5 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W1 |
0.5-1 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W1.5 |
1-1.5 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W2.5 |
1.5-2.5 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W3.5 |
2.5-3.5 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W5 |
3.5-5 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W7 |
5-7 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W10 |
7-10 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W14 |
10-14 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
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W20 |
14-20 |
标准或依需求配置 |
0.5L、1 L、5 L、20 L等 |
硅片研磨液
产品特性：
经提纯工艺处理，杂质含量可降到十万分之一的数量级。
采用有机碱化合物进行PH调节，防止引入更多的金属离子。
颗粒分布均匀，不易产生划痕。
金属研磨液
产品特性：
采用立方碳化硅微粉为磨料，具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。
严格的粒度控制，粒度分布指标优于行业和国家标准。
添加剂不含对人体有害成分，符合环保要求。
适用范围：适用于不锈钢、铜、铸铁、铝合金、镁合金、模具钢、金属基复合材料等材质的研磨抛光。
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