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立方SiC研磨液、抛光液

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立方SiC研磨液、抛光液

纳米粒子的分散稳定性好,放置3个月无明显沉降,粒度几乎没有变化。具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。绿色环保、抛光散热快、稀释能力强、成本较低。采用有机酸碱化合物进行PH调节,防止引入更多的金属离子。
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产品描述

  纳米抛光液

  产品特性:

  纳米粒子的分散稳定性好,放置3个月无明显沉降,粒度几乎没有变化。

  具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。

  绿色环保、抛光散热快、稀释能力强、成本较低。

  采用有机酸碱化合物进行PH调节,防止引入更多的金属离子。

  适用范围:适用于各类金属、橡胶塑料、半导体硅片、光学玻璃等材质的抛光。

  产品规格:80nm、100nm、120nm、200 nm、300nm、500nm。

  可按照客户的具体要求定制粒度和浓度等配置。

 

  橡胶塑料研磨液

  产品特性:

  采用立方碳化硅微粉为磨料,具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。

  严格的粒度控制,粒度分布指标优于行业和国家标准。

  ØPH值为中性,无腐蚀性,不会对人员操作造成伤害。

  适用范围:适用于橡胶、塑料、聚合物基复合材料等材质的研磨抛光。

  产品参数:

粒度号

微米尺寸范围(µm)

β-SiC微粉浓度

包装规格

W0.03

0-0.03

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.04

0-0.04

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.05

0-0.05

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.07

0-0.07

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.1

0-0.1

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.2

0.05-0.2

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.3

0.07-0.3

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.4

0.08-0.4

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W0.5

0.1-0.5

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W1

0.5-1

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W1.5

1-1.5

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W2.5

1.5-2.5

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W3.5

2.5-3.5

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W5

3.5-5

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W7

5-7

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W10

7-10

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W14

10-14

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

W20

14-20

标准或依需求配置

0.5L、1 L、5 L、20 L等

  硅片研磨液

  产品特性:

  经提纯工艺处理,杂质含量可降到十万分之一的数量级。

  采用有机碱化合物进行PH调节,防止引入更多的金属离子。

  颗粒分布均匀,不易产生划痕。

 

  金属研磨液

  产品特性:

  采用立方碳化硅微粉为磨料,具有耐磨性好、研磨速度快、加工精度高、表面质量好、性价比高等优点。

  严格的粒度控制,粒度分布指标优于行业和国家标准。

  添加剂不含对人体有害成分,符合环保要求。

  适用范围:适用于不锈钢、铜、铸铁、铝合金、镁合金、模具钢、金属基复合材料等材质的研磨抛光。

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发布时间:2019-04-29 00:00:00
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